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  • [行業新聞] 合金靶材的濺射原理

    合金靶材的濺射原理：對濺射類鍍膜，可以簡單理解爲利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團或離子形式被濺射出來，并且最終沉積在基片表面，經曆成膜過程，最終形成薄膜。濺射鍍膜又分爲很多種，總體看，與蒸發鍍膜的不同點在于濺射
    發布時間：2016-03-29   點擊次數：453

  • [技術中心] 合金靶材濺射靶材使用指南及注意事項

    一、濺射準備保持真空腔體尤其是濺射系統潔淨是非常重要的。任何由潤滑油和灰塵以及前期鍍膜所形成的殘留物會收集水氣及其他污染物，直接影響真空度獲得和增加成膜失敗的可能性。短路或靶材起弧，成膜表面粗糙及化學雜質含量超标經
    發布時間：2016-03-29   點擊次數：1438

  • [技術中心] 合金靶材-背靶使用指南

    一、背靶材料無氧銅(OFC)–目前最常使用的作背靶的材料是無氧銅，因爲無氧銅具有良好的導電性和導熱性，而且比較容易機械加工。如果保養适當，無氧銅背靶可以重複使用10次甚至更多。钼(Mo)–在某些使用條件比較特殊的情況下，如
    發布時間：2016-03-29   點擊次數：337

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